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Fabrication of polyimide sacrificial layers with inclined sidewalls based on reactive ion etching
  • ISSN号：2158-3226
  • 期刊名称：AIP Advances
  • 时间：2014.3.11
  • 页码：0313281-0313287
  • 相关项目：基于黑硅吸收层的多层组合纳米膜红外探测器及其气体检测技术
作者： Chenyang Xue|Wen Ou|Jin Liu|Dapeng Chen|
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