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注氮工艺对SIMON材料抗辐射性能
  • 期刊名称：半导体学报, 26(6), (2005), P
  • 时间：0
  • 相关项目：低剂量注氧隔离技术氧化埋层形成机理研究
作者： 张恩霞*，钱聪，张正选，王曦，
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