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溅射功率对GdTbFeCo薄膜磁光性能的影响
  • ISSN号:1000-1190
  • 期刊名称:《华中师范大学学报:自然科学版》
  • 时间:0
  • 分类:TM271[电气工程—电工理论与新技术;一般工业技术—材料科学与工程]
  • 作者机构:[1]华中师范大学物理科学与技术学院,武汉430079
  • 相关基金:基金项目:国家自然科学基金资助项目(60490291)
中文摘要:

采用射频磁控溅射法在玻璃基片上成功制得了GdTbFeCo非晶垂直磁化膜,研究了溅射功率对GdTbFeCo薄膜磁光性能的影响.测量结果表明:基片与靶间距为72mm,溅射功率为75w,溅射气压为0.5Pa,薄膜厚度为120nm时,GdTbFeCo薄膜垂直方向矫顾力达到5966Oe,克尔角为0.413°.

英文摘要:

GdTbFeCo magnetic thin films were prepared onto glass substrates by RF magnetron sputtering system. The effect of sputtering power on the magneto-optical properties of the thin films was investigated. It is found that when the distance between the target and substrates, the sputtering power, sputtering pressure and thickness of the GdTbeFeCo thin films are 72 nm, 75 W, 0.5 Pa and 120 nm, respectively,the kerr rotation angle and coercivity that in the perpendicular direction are as high as 0. 413° and 5966 Oe.

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期刊信息
  • 《华中师范大学学报:自然科学版》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:教育部
  • 主办单位:华中师范大学
  • 主编:范军
  • 地址:武昌桂子山
  • 邮编:430079
  • 邮箱:inbox@mail.ccnu.edu.cn
  • 电话:027-67868127
  • 国际标准刊号:ISSN:1000-1190
  • 国内统一刊号:ISSN:42-1178/N
  • 邮发代号:38-39
  • 获奖情况:
  • 全国综合性科学技术核心期刊,中国科学引文数据库来源期刊,中国科技论文统计源期刊,中国期刊方阵“双效”期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),美国数学评论(网络版),波兰哥白尼索引,德国数学文摘,英国动物学记录,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:8526