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溅射工艺条件对TbFeCo/Pt薄膜磁性能的影响
  • ISSN号：1001-9731
  • 期刊名称：功能材料
  • 时间：0
  • 页码：1431-1433
  • 语言：中文
  • 分类：TM271[电气工程—电工理论与新技术;一般工业技术—材料科学与工程]
  • 作者机构：[1]华中科技大学电子科学与技术系,湖北武汉430074, [2]中国地质大学（武汉）材料科学与化学工程学院,湖北武汉430074
  • 相关基金：国家自然科学基金重大资助项目（60490290）;国家自然科学基金资助项目（60571010）
  • 相关项目：光磁混合存储记录介质、物性及盘片研究
作者： 胡珊|林更琪|董凯锋|李佐宜|程伟明|杨晓非|
关键词： 射频磁控溅射, 非晶垂直磁化膜, 矫顽力, 饱和磁化强度, 光磁混合记录, radio frequency magnetron sputtering, amorphous perpendicular magnetization films, coercivity, saturation magnetization, hybrid recording
中文摘要：

采用射频磁控溅射法在玻璃基片上成功制得了TbFeCo／Pt非晶垂直磁化膜，系统研究了溅射工艺参数对TbFeCo薄膜磁性能的影响。振动样品磁强计测量结果表明：Tb含量在补偿成分点附近，采用较低的溅射氩气压与Pt底层，有利于提高TbFeCo薄膜的磁性能；当Tb含量为0．24，溅射功率为300W，溅射气压为0．53Pa，薄膜厚度为140nm时，TbFeCo／Pt薄膜矫顽力达到476kA。／m，饱和磁化强度为151kA／m，剩磁矩形比超过0．8，该薄膜有望用作高密度光磁混合记录介质。

英文摘要：

TbFeCo/Pt amorphous perpendicular magnetization films were prepared onto glass substrate by RF magnetron sputtering and the effect of the conditions of sputtering technology on the magnetic properties of TbFeCo/Pt films was investigated. The measurement results of vibrating sample magnetometer show that the Tb content near the compensation,low sputtering pressure and adopting Pt underlayer can increase the magnetic properties of TbFeCo films. While the Tb atomic concentration is 0.24,the sputtering power is 300W,the sputtering pressure is 0. 536Pa and the films thickness is 140nm,the coercivity attains 476kA/m,the saturation magnetization reaches 151kA/m and the remanence square exceeds 0.8. These results indicate TbFeCo / Pt films can be used as high density hybrid recording media.

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期刊信息
  • 《功能材料》
  • 北大核心期刊（2011版）
  • 主管单位:重庆材料研究院
  • 主办单位:重庆材料研究院
  • 主编：黄伯云
  • 地址：重庆北碚区蔡家工业园嘉德大道8号
  • 邮编：400707
  • 邮箱：gnclwb@126.com
  • 电话：023-68264739
  • 国际标准刊号：ISSN：1001-9731
  • 国内统一刊号：ISSN：50-1099/TH
  • 邮发代号:78-6
  • 获奖情况:
  • 2008、2011年连续获中国精品科技期刊,2010获重庆市双十佳期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘（网络版）,荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊（2004版）,中国北大核心期刊（2008版）,中国北大核心期刊（2011版）,中国北大核心期刊（2014版）,英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊（2000版）
  • 被引量:30166