基于SiGeC/Si异质结构理论分析,建立SiGeC/Si功率二极管器件模型和工艺模型,并运用于器件模拟软件MEDICI和工艺模拟软件SUPREM-4中,为新器件和工艺设计提供可靠的模拟仿真手段;针对电力电子技术对功率二极管快速软恢复特性愈来愈高的要求,提出SiGeC/Si快速软恢复功率二极管器件的新结构,通过模拟分析SiGeC/Si异质结材料结构对器件各电参数的影响因素,尤其是通过Ge含量调节和C含量的补偿,寻找综合参数优化的器件结构与工艺参数,实现优异的存贮电荷Q、通态电压Vf和反向漏电流Ir 折衷,得到优良的快速软恢复特性;通过工艺模拟手段探索合适的掺碳工艺和器件工艺条件,制定出简单易行的SiGeC/Si异质结功率二极管工艺流程和实施方案。该研究将对利用SiGeC/Si异质结构制作高性能功率器件和功率集成电路开辟新的途径。
基于C对SiGe合金的应变补偿作用,提出了SiGeC/Si快速软恢复功率二极管新器件,该器件不仅可以实现低通态压降下高电流密度的传输,具有快而软的的反向恢复特性,而且还大大减小了器件的反向漏电流提高了器件的热稳定性,降低了器件特性对材料临界厚度的依赖性,提高了器件设计的自由度。其次,对影响器件特性的关键物理参数模型进行修正,将其运用于MEDICI和ISE中,为新器件的设计提供可靠的模拟仿真手段。针对电力电子技术对功率二极管快恢复软恢复特性越来越高的要求,提出两种SiGeC/Si异质结功率二极管新结构。与常规结构SiGeC/Si异质结功率二极管相比,新结构器件的反向恢复特性大大改善,恢复时间明显缩短,软度因子显著提高,反向峰值电流也有不同程度的降低。尤其是n-区渐变掺杂理想欧姆接触二极管,与n-区常规掺杂理想欧姆接触二极管相比,其不仅具有快而软的反向恢复特性,而且反向阻断电压增加了将近一倍,正向通态压降也有所降低,很好的实现了功率二极管中Qs-Vf-Ir三者的良好折衷。制定出简单易行的SiGeC/Si快速软恢复功率二极管工艺流程并进行样品试制。