位置:立项数据库 > 立项详情页
新型三维超结表面低阻通道横向功率MOS器件
  • 项目名称:新型三维超结表面低阻通道横向功率MOS器件
  • 项目类别:面上项目
  • 批准号:60576052
  • 申请代码:F040403
  • 项目来源:国家自然科学基金
  • 研究期限:2006-01-01-2008-12-31
  • 项目负责人:张波
  • 负责人职称:教授
  • 依托单位:电子科技大学
  • 批准年度:2005
中文摘要:

高速、低损耗、可集成的功率器件是目前功率半导体乃至集成电路研究的热点。本项目首次提出三维超结(super junction)表面低阻通道横向功率MOS器件――SLOP-LDMOS (surface low on-resistance path lateral double-diffusion MOS)新结构。新结构引入的三维超结位于横向功率器件漂移区浅表面,通过三维超结结构的Z方向电场提高掺杂浓度,以提供开态时的低阻通道。器件主要耐压仍由三维超结下的常规RESURF结构所承担,异于习用超结作为耐压层以同时提供耐压和低阻的思路。新结构为一普适结构,可扩展到其它功率器件研究中,易于集成,能实现高速、高压、低阻且与低压器件兼容的目的。本项目是一项具有国际先进水平的基础性开拓研究,具有重要意义。

结论摘要:

英文主题词3D Super-Junction; lateral power MOS; surface low on-resistance path


成果综合统计
成果类型
数量
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利
  • 获奖
  • 著作
  • 9
  • 3
  • 0
  • 0
  • 0
张波的项目
期刊论文 12 会议论文 7 专利 15