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中文摘要：
全场X 射线显微成像技术具有极高的空间分辨率。这一技术在纳米生物医学、纳米材料研究中具有重要的应用，因此世界上大部分同步辐射装置均建有全场X 射线显微成像实验站。而这种X 射线显微成像技术的空间分辨率与成像放大波带片的最外环的宽度有关。因此，要得到空间分辨率为几十纳米的X 射线显微成像，波带片的最外环的宽度也应为几十纳米。同时，由于X 射线的穿透能力强，用于X 射线显微成像的波带片的图形厚度必须达到几百纳米甚至接近微米，也就是说图形的高宽比很大，因此这一波带片的制作难度非常大。它是阻碍X 射线显微成像实现高空间分辨率的关键因素。本项目主要是研究波带片制作的关键技术，结合电子束光刻和X射线光刻的技术优点，成功研制了最外环宽度100纳米，高宽比大于7的X射线显微成像波带片；同时，开展了X 射线显微成像应用研究，促进了我国的X 射线显微成像技术发展。
结论摘要：
英文主题词Synchrotron radiation X-ray imaging; Zone plate; X-ray lithography; E-beam lithography
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