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高高宽比硬X射线聚焦波带片的制作
  • ISSN号：1003-8213
  • 期刊名称：《微细加工技术》
  • 时间：0
  • 分类：TN305.7[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构：安徽大学电子科学与技术学院, 中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成实验室, 中国科学院光电技术研究所
  • 相关基金：国家重大基础科学研究计划973项目资助(2007CB935302);国家高技术研究计划863项目资助(2006AA03Z355);国家自然科学基金资助项目(60676008)
作者： 吴璇, 陈军宁, 朱效立, 牛洁斌, 李亚文, 胡松, 谢常青
关键词： 菲涅尔波带片, 硬X射线, X射线光刻, 电子束直写, 高高宽比
中文摘要：

相对于软X射线显微成像,硬X射线显微成像对菲涅尔波带片的吸收体厚度提出了更高的要求。采用电子束光刻和X射线光刻复制的方法,在聚酰亚胺薄膜上成功制作了高高宽比的菲涅尔波带片。首先利用电子束光刻和微电镀技术制作了X射线光刻的掩模,然后利用X射线光刻和微电镀制作了高高宽比、线条侧壁陡直的菲涅尔波带片。复制后的波带片最外环宽度500 nm,直径1 mm,吸收体金厚度为3.6μm,高宽比达到7.2,可用于10 keV~25 keV的硬X射线成像。

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期刊信息
  • 《微细加工技术》
  • 主管单位:信息产业部
  • 主办单位:中国电子科技集团公司第48研究所
  • 主编：伍三忠
  • 地址：长沙市第96号信箱301分箱（长沙黑石铺）
  • 邮编：410111
  • 邮箱：
  • 电话：0731-2891478
  • 国际标准刊号：ISSN：1003-8213
  • 国内统一刊号：ISSN：43-1140/TN
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 中文核心期刊,国家一级检索刊物用刊
  • 国内外数据库收录:
  • 荷兰文摘与引文数据库
  • 被引量:1695