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低温等离子体射流制备二氧化钛薄膜及其光催化活性的研究
  • ISSN号:1672-7126
  • 期刊名称:《真空科学与技术学报》
  • 时间:0
  • 分类:TB321[一般工业技术—材料科学与工程]
  • 作者机构:[1]北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室等离子体物理与材料研究室,北京102600
  • 相关基金:北京市教育委员会科技计划面上项目(No.KM201010015005); 北京市优秀人才培养计划资助项目(No.2010D005004000001)
中文摘要:

利用大气压低温等离子体射流技术,以空气为放电气体,四氯化钛为钛源,在玻璃载玻片基底上制备了二氧化钛薄膜。利用扫描电镜及椭圆偏振仪分析测量了薄膜的表面形貌与沉积速率。利用紫外光照射硬脂酸分解速率评价所制备薄膜的光催化活性,结果显示在同一放电输入功率及气体流量条件下,四氯化钛前驱体引入位置距射流枪枪口越近,所制备的二氧化钛薄膜光催化性能越高。在同一反应位置时,放电输入功率的增加有助于提高二氧化钛薄膜的光催化活性。

英文摘要:

The titanium dioxide films were deposited on glass substrates with plasma jet under ambient conditions.The impacts of the growth conditions,such as the Ti source material,gas flow rate,plasma power,deposition rate,orientation and distance of the nozzle,on the film growth were studied.The microstructures of the TiO2 films were characterized with scanning electron microscopy,Raman spectroscopy,ellipsometry,and Fourier transform infrared spectroscopy.The decomposition rates of the stearic acid layers under irradiation of ultra violet light were evaluated to test its photocatalystic property.The control test results show that the distance between the nozzle and TiCl4 precursor beam strongly affects its photocatalystic activity.Moreover,an increase of the plasma power enhances the activity.

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期刊信息
  • 《真空科学与技术学报》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学技术协会
  • 主办单位:中国真空学会
  • 主编:李德杰
  • 地址:北京朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
  • 邮编:100022
  • 邮箱:cvs@chinesevacuum.com
  • 电话:010-58206280
  • 国际标准刊号:ISSN:1672-7126
  • 国内统一刊号:ISSN:11-5177/TB
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:4421