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应用于40Gb/s高速热沉的匹配电阻研究
  • ISSN号:1001-9014
  • 期刊名称:《红外与毫米波学报》
  • 时间:0
  • 分类:TN454[电子电信—微电子学与固体电子学]
  • 作者机构:[1]清华大学电子工程系,集成光电子学国家重点实验室,北京100084
  • 相关基金:国家自然科学基金(60536020,60390074),“973”重大国家基础研究计划(2006CB302801)
中文摘要:

针对40Gb/s高速过渡热沉阻抗匹配的要求,对基于Ta2N薄膜的匹配电阻制作工艺进行了系统研究.根据过渡热沉的等效电路模型,分析了Ta2N薄膜电阻与传输线电极间接触电阻对高频反射特性的影响,并通过理论仿真确定了热沉匹配电阻的容差范围.利用磁控反应溅射技术,制作出特性稳定、方阻可调的Ta2N电阻薄膜.通过优化高温退火条件,将电阻薄膜与金属电极间的比接触电阻率降至10^-6·Ωcm^2量级.在此基础上,制作出了性能良好稳定、可应用于40Gb/s光电子器件封装的高速过渡热沉.

英文摘要:

A systematic study of the fabrication process of Ta2N thin-film resistor was presented to meet the impedance matching requirement of 40Gb/s high-speed submount. Equivalent circuit of the submount was proposed to analyze the influence of contact resistance on the reflection characteristics at high frequencies. And the resistance tolerance of the thinfilm resistor was determined based on the numerical simulation. Ta2N thin-film with a stable and adjustable sheet resistance was fabricated by reactive sputtering. Specific contact resistivity between the Ta2N thin-film and metal electrode was reduced to 10-6 Ω· cm^2 by optimizing the annealing temperature. Based on these results, high-speed submount with stable and high transmission performance was fabricated for the packaging of 40Gb/s optoelectronic devices.

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期刊信息
  • 《红外与毫米波学报》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国科学院上海技术物理研究所 中国光学学会
  • 主编:褚君浩
  • 地址:上海市玉田路500号
  • 邮编:200083
  • 邮箱:jimw@mail.sitp.ac.cn
  • 电话:021-25051553
  • 国际标准刊号:ISSN:1001-9014
  • 国内统一刊号:ISSN:31-1577/TN
  • 邮发代号:4-335
  • 获奖情况:
  • 1992、1996年获全国优秀学术期刊一等奖,1999年首届国家期刊奖
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国剑桥科学文摘,美国科学引文索引(扩展库),日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),瑞典开放获取期刊指南,中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:8778