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Si^+自注入Si晶体中缺陷分布的计算模拟
  • ISSN号:1001-8891
  • 期刊名称:《红外技术》
  • 时间:0
  • 分类:TN213[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]云南大学光电信息材料研究所,云南昆明650091
  • 相关基金:国家自然科学基金项目 编号:10964016和10990101; 教育部科学技术研究重点项目 编号:210207; 云南大学理工基金项目 编号:2009E27Q
中文摘要:

在两体近似碰撞模型基础上,采用SRIM程序对自注入硅离子及其造成的损伤在样品的分布进行了研究,模拟了Si+自注入Si晶体的Si+深度分布几率和注入时的能量传递。计算结果表明:在相同注入能量的情况下,注入Si+的分布概率是恒定的,在注入过程中电离能是阻止Si+进一步深入的主导因素。论文还初步讨论了注入剂量和退火温度对发光强度的影响,以及W缺陷的可能形成原因。

英文摘要:

Based on the binary collision approximation(BCA),the defect distribution in the self-ion implantation and its energy transfer in Si crystal had been investigated by using the SRIM program.The calculated results indicated that the distribution probability of implanted Si+ is constant in the crystal Si,if the implantation energies are the same.The dominating factor which stops the implanted Si+ further deepening is demonstrated to be the value of the ionization energy.In this paper,the effects of implanted does and annealing temperature on the photoluminescence intensity and the origin of W defect were well discussed.

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期刊信息
  • 《红外技术》
  • 北大核心期刊(2011版)
  • 主管单位:中国兵器工业集团公司
  • 主办单位:昆明物理研究所 中国兵工学会夜视技术专业委员会 微光夜视技术重点实验室
  • 主编:苏君红
  • 地址:昆明市教场东路31号
  • 邮编:650223
  • 邮箱:irtek@china.com
  • 电话:0871-5105248
  • 国际标准刊号:ISSN:1001-8891
  • 国内统一刊号:ISSN:53-1053/TN
  • 邮发代号:64-26
  • 获奖情况:
  • 2006兵器集团一等奖,2004、2009年云南省优秀期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 荷兰文摘与引文数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:8096