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大注入条件下高发光效率GaN基LED有源区结构研究
  • 项目名称:大注入条件下高发光效率GaN基LED有源区结构研究
  • 项目类别:面上项目
  • 批准号:60876063
  • 申请代码:F040502
  • 项目来源:国家自然科学基金
  • 研究期限:2009-01-01-2011-12-31
  • 项目负责人:陈志忠
  • 负责人职称:副教授
  • 依托单位:北京大学
  • 批准年度:2008
中文摘要:

大注入条件下高发光效率GaN基LED对通用照明的应用具有巨大的价值,它不但方便二次光学设计,而且还将显著降低光源制作成本和使用成本。但是在目前常用的技术水平下,大注入条件下LED发光效率显著下降,主要原因是大注入下有源区中俄歇复合和注入效率变差。本项目的研究目的是得到至少一种大注入下高效发光的LED结构,同时基于该结构对载流子注入、复合机制进行研究,发展大注入条件下的器件物理。本项目的主要研究内容包括(1)电子阻挡层和电子驻留层结构的研究;(2)双异质结构LED的研究;(3)AlInGaN/InGaN多量子阱LED研究。通过研究解决载流子的高效率注入,应力可控的高质量InGaN有源区生长,AlInGaN垒层的结构对InGaN复合机制的影响等问题,从而解决半导体照明的关键技术和理论问题。课题申请人及其课题组近年来一直致力于半导体照明的研究,取得了富有特色的研究成果,积累了大量的经验。


成果综合统计
成果类型
数量
  • 期刊论文
  • 会议论文
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  • 1
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