本项目研究在r-面蓝宝石图形衬底上制备半极性(11-22)GaN材料MOCVD生长技术,具体的研究内容是在GaN材料半极性面的MOCVD定向控制生长技术和采用图形衬底降低位错密度。提出了一种新的两步解决问题的研究方法,即一是通过掌握生长条件与不同晶向生长速率的关系以解决孪晶问题,二是通过定向生长技术与图形衬底技术结合以解决目前半极性GaN材料生长中存在的孪晶及位错密度高的问题。制备的半极性(11-22)GaN材料方位角在平行和垂直于c-方向的X衍射曲线峰值半高宽分别不高于750arcsec,450arcsec,表面粗糙度不大于5nm。本课题的研究对解决目前GaN材料的极化问题,提高GaN基发光二极管性能,扩展GaN基材料的发射波长到橙黄光波段具有重要意义。
英文主题词Nitride;semipolar GaN; MOCVD;XRD;