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利用限制扩散湿法刻蚀法制作GaAs微透镜
  • ISSN号:1005-0086
  • 期刊名称:光电子.激光
  • 时间:0
  • 页码:709-712
  • 语言:中文
  • 分类:TN248.4[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]中国科学院长春光学精密机械与物理研究所激发态物理重点实验室,吉林长春130033, [2]中国科学院研究生院,北京100039
  • 相关基金:基金项目:国家自然科学基金资助项目(60636020,60676034,60476029,60577003,60876036,60706007)
  • 相关项目:微透镜集成基横模大功率垂直腔面发射激光器
中文摘要:

采用微透镜作为输出耦合镜,与垂直腔面发射激光器(VCSEL)的p-DBR和n-DBR构成复合腔,可以获得大功率单横模激光输出,改善光束质量。在GaAs衬底上采用限制扩散湿法刻蚀技术制作出不同直径的微透镜,研究了微透镜形成的基本原理、工艺流程,通过控制腐蚀的时间和腐蚀溶液的配比度,得到了不同曲率半径的微透镜,并且对微透镜表面形貌进行了研究。

英文摘要:

Microlens can be used to realize high power and single transverse mode by forming a compound cavity with p-DBR and reDBR of the vertical cavity surface emitting laser(VCSEL) chip. Mierolenses with different diameters are fabricated on the n-side of the VCSEL wafer by using diffusion-limited wet etching. With the diameter of 600 tLm,the roughness of the lens surface is 15.55 nm,the curvature radius is 959. 66 μm,the focal length is 369.1 μm With the smaller diameter of 200μm,the roughness of the lens surface is 12. 56 nm,the curvature radius is 959. 86μm,the focal length is 369. 18 μm. The solution ratio of HBr, H2O2 ,H2O is the major factor to impact the etching rate. Also the temperature of environment is the important factor to form the smooth surface of lens.

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期刊信息
  • 《光电子.激光》
  • 北大核心期刊(2011版)
  • 主管单位:天津市教育委员会
  • 主办单位:天津理工大学 中国光学学会
  • 主编:巴恩旭
  • 地址:天津市西青区宾水西道391号
  • 邮编:300384
  • 邮箱:baenxu@263.net baenxu@aliyun.com
  • 电话:022-60214470
  • 国际标准刊号:ISSN:1005-0086
  • 国内统一刊号:ISSN:12-1182/O4
  • 邮发代号:6-123
  • 获奖情况:
  • 中国期刊方阵“双效”期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:16551