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高温CMOS集成电路闩锁效应分析
  • ISSN号:0372-2112
  • 期刊名称:电子学报
  • 时间:0
  • 作者或编辑:3448
  • 第一作者所属机构:安徽大学 电子科学与技术学院
  • 页码:1894-1896
  • 语言:中文
  • 分类:TN432[电子电信—微电子学与固体电子学]
  • 作者机构:[1]安徽大学电子工程系,安徽合肥230039, [2]合肥工业大学计算机系,安徽合肥230001
  • 相关基金:国家自然科学基金(No.60276042)
  • 相关项目:亚0.1微米统一的体硅和SOI MOSFET SPICE模型的研究
中文摘要:

本文详细地分析了LDD结构高温CMOS集成电路闩锁效应。文中提出了亚微米和深亚微米CMOS集成电路闩锁效应的模型。在该模型中,针对器件的尺寸和在芯片上分布情况,我们认为CMOS IC闩锁效应的维持电流有两种模式:大尺寸MOST的寄生双极晶体管是长基区,基区输运因子起主要作用;VLSI和ULSI中MOST的寄生双极晶体管是短基区,发射效率起主要作用。但是他们的维持电流都与温度是负指数幂关系。文章给出了这两种模式下的维持电流与温度关系,公式在25℃至300℃之间能与实验结果符合。

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期刊信息
  • 《电子学报》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学技术协会
  • 主办单位:中国电子学会
  • 主编:郝跃
  • 地址:北京165信箱
  • 邮编:100036
  • 邮箱:new@ejournal.org.cn
  • 电话:010-68279116 68285082
  • 国际标准刊号:ISSN:0372-2112
  • 国内统一刊号:ISSN:11-2087/TN
  • 邮发代号:2-891
  • 获奖情况:
  • 2000年获国家期刊奖,2000年获国家自然科学基金志项基金支持,中国期刊方阵“双高”期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国剑桥科学文摘,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:57611