本文详细地分析了LDD结构高温CMOS集成电路闩锁效应。文中提出了亚微米和深亚微米CMOS集成电路闩锁效应的模型。在该模型中,针对器件的尺寸和在芯片上分布情况,我们认为CMOS IC闩锁效应的维持电流有两种模式:大尺寸MOST的寄生双极晶体管是长基区,基区输运因子起主要作用;VLSI和ULSI中MOST的寄生双极晶体管是短基区,发射效率起主要作用。但是他们的维持电流都与温度是负指数幂关系。文章给出了这两种模式下的维持电流与温度关系,公式在25℃至300℃之间能与实验结果符合。