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Improved hydrogen ionization rate in enhanced glow discharge plasma immersion ion implantation by en
  • 期刊名称：REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS 82, 023503 , 2011
  • 时间：2011.1.1
  • 页码：023503-1-023503-3
  • 相关项目：电子聚焦电场增强等离子体离子注入/沉积基本理论研究
作者： Z. Wang, Y. Zhu, L. H. Li, Q. Y. Lu, F. S. He,|
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