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磁控溅射技术及其发展
  • ISSN号:1002-8935
  • 期刊名称:真空电子技术
  • 时间:2011
  • 页码:49-54
  • 分类:TB43[一般工业技术]
  • 作者机构:[1]北京航空航天大学机械工程及自动化学院,北京100191, [2]香港城市大学应用物理及材料系,香港
  • 相关基金:国家自然科学基金(10775013); 教育部新世纪优秀人才支持计划; “中央高校基本科研业务费”专项资金(YWF-10-01-A07)资助的课题
  • 相关项目:电子聚焦电场增强等离子体离子注入/沉积基本理论研究
中文摘要:

磁控溅射技术可制备超硬膜、耐腐蚀摩擦薄膜、超导薄膜、磁性薄膜、光学薄膜,以及各种具有特殊功能的薄膜,在工业薄膜制备领域的应用非常广泛。本文着重介绍了磁控溅射技术原理、特点、磁控溅射技术的发展史及其发展趋势。

英文摘要:

Magnetron sputtering could be used in deposition of hard,wear-resistant coatings,low friction coatings,corrosion resistant coatings,superconducting coatings,magnetic coatings,optical coatings,and coatings with other special functions.Magnetron sputtering has become widely used to fabricate thin film in industry.The principle and the characteristics of magnetron sputtering technology,as well as the development history and the development trends of magnetron sputtering are introduced in this paper.

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期刊信息
  • 《真空电子技术》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国电子科技集团公司
  • 主办单位:北京真空电子技术研究所
  • 主编:廖复疆
  • 地址:北京市朝阳区酒仙桥路13号
  • 邮编:100015
  • 邮箱:zhenkongdianzi@126.com
  • 电话:010-84560772 64361731-2231
  • 国际标准刊号:ISSN:1002-8935
  • 国内统一刊号:ISSN:11-2485/TN
  • 邮发代号:
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  • 国内外数据库收录:
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