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Ion focusing in enhanced glow discharge plasma immersion ion implantation of hydrogen and nitrogen i
  • ISSN号：0022-8979
  • 期刊名称：Journal of Applied Physics,
  • 时间：2010.12.12
  • 页码：1-4
  • 相关项目：电子聚焦电场增强等离子体离子注入/沉积基本理论研究
作者： 19. Q. Y. Lu, Z. Wang, L. H. Li, R. K. Y. Fu, and|
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