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考虑量子效应的短沟道n-MOSFET表面电势分布数值模型
  • 期刊名称:微电子学与计算机, 28(12), pp 75-78, 12月 2011
  • 时间:0
  • 分类:TN386.1[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]苏州大学电子信息学院,江苏苏州215021
  • 相关基金:国家自然科学基金项目(61076102 61076080)
  • 相关项目:Graphene场效应管散射机制的研究
中文摘要:

提出了一种考虑量子效应的短沟道沟道表面电势数值模型,并在此基础上分析了源漏偏压对表面势分布的影响.计算结果和二维量子力学数值模拟结果很好地吻合.结果表明:源漏偏压会造成线性区的沟道表面势减小,进而导致阈值电压下跌;而在饱和区,源漏偏压的影响更大,会造成表面势明显下降,阈值下跌将会更加严重.

英文摘要:

In this paper,a numerical model for the distribution of channel surface potential has been proposed.The influence of the drain to source bias on the distribution of channel surface potential has been studied.Calculation results agree well with 2-D quantum mechanical numerical simulation.The results demonstrate that the voltage drop between drain and source reduces the channel surface potential in linear region and leads to Vth roll-off,whereas the influence will be more serious in saturation region.

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