位置:成果数据库 > 期刊 > 期刊详情页
Research on the Polishing Performance of CMP Slurry for the Sapphire Crystal
  • 期刊名称:Advanced Materials Research
  • 时间:0
  • 页码:457-463
  • 语言:英文
  • 相关项目:硅片与光电晶体基片的高效低损伤超精密磨削技术研究
同期刊论文项目
同项目期刊论文