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Research on the Polishing Performance of CMP Slurry for the Sapphire Crystal
期刊名称:Advanced Materials Research
时间:0
页码:457-463
语言:英文
相关项目:硅片与光电晶体基片的高效低损伤超精密磨削技术研究
作者:
Z.G. Dong|S. Gao|Z.J. Jin|R.K. Kang|
同期刊论文项目
硅片与光电晶体基片的高效低损伤超精密磨削技术研究
期刊论文 74
著作 1
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