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Strain Field Mapping of Dislocations in a Ge/Si Heterostructure
  • ISSN号:1932-6203
  • 期刊名称:PLos One
  • 时间:2013
  • 页码:e62672-
  • 相关项目:硅锗异质结构界面纳观应变场及其对光电性能的调控
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