激光技术的发展对增透膜的要求越来越高.采用溶胶-凝胶工艺,运用提拉法镀膜技术与氨处理的后处理工艺,制备了高强度的纳米多孔SiO2增透膜.利用分光光度计研究了提拉速度对透射光谱的影响.结果表明,可以通过控制提拉速度来控制薄透射峰值的位置.经过氨处理,薄膜的机械强度比未采用氨处理的薄膜大大增强,并利用红外光谱、原子力显微镜(AFM)等分析手段分析了薄膜强度增强的机理.最后在石英玻璃基底上镀制了激光三倍频增透膜,该薄膜在355nm处透射率为99.58%,满足了实际应用的需要.