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中文摘要：
采用溶胶-凝胶技术，蒸发诱导自组装法（EISA）工艺制备了二氧化硅透明有序介孔薄膜。以十六烷基三甲基溴化铵（CTAB）作为模板剂，正硅酸乙酯（TEOS）为硅源前驱体，基片采用双面抛光的硅片，利用提拉法制备薄膜。经过表面修饰剂六甲基二硅胺烷（HMDS）修饰后，薄膜具有疏水性能，而且薄膜的二氧化硅骨架结构更稳定。由椭偏仪测得热处理后的薄膜的折射率低至1．18．而薄膜的介电常数为2．14。
英文摘要：
Mesoporous silica films were successfully prepared through sol-gel process with evaporation-induced self-assembly Tetraethoxysilane （TEOS） was used as silica precursor and Cetyltrimethylammonium bromide （CTAB） as the templating agent. The films were deposited on the silicon wafer or glass substrate using a dip-coating method. The refractive index（κ） of the mesoporous films was 1.18, while the dielectric constant（n） was 2.14.
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