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Pd/V_2O_5薄膜的氢气敏感性质研究
  • ISSN号:1671-4431
  • 期刊名称:《武汉理工大学学报》
  • 时间:0
  • 分类:O484.4[理学—固体物理;理学—物理]
  • 作者机构:[1]武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室,武汉430070, [2]武汉理工大学光纤传感技术与信息处理教育部重点实验室,武汉430070
  • 相关基金:国家自然科学基金重点项目(60537050)
中文摘要:

采用磁控溅射法制备了不同厚度的Pd/V2O5双层复合薄膜,采用紫外-可见光分光光度计研究了薄膜的氢气敏感性质,原位测量了薄膜的激光拉曼光谱并分析了薄膜的氢气敏感机理。结果表明,复合薄膜V2O5(280 nm)/Pd(30nm)对氢气的敏感性质较好,对0.01%H2-N2有响应,在4%H2-N2标气中,在560 nm处透过率的相对变化值达到25%。拉曼光谱分析结果表明,Pd/V2O5薄膜在与氢气作用过程中,Pd膜主要起催化作用,氢原子扩散到V2O5层,V5+转变为V4+,导致Pd/V2O5薄膜的透过率发生变化。

英文摘要:

Pd/V2O5 double-layer films with different thickness were deposited with magnetron sputtering method.The hydrogen-sensing properties and the gasochromic mechanism of the composite films were investigated with a UV-Vis spectrophotometer and a Raman spectroscope,respectively.The results show that,thin film V2O5(280 nm)/Pd(30 nm) possesses relatively good sensing properties to hydrogen gas.This thin film is sensitive to 0.01% H2-N2,and a change of 25% in relative transmitance at 560 nm can be observed in 4% H2-N2.The Raman spectra suggest that Pd thin film mainly palys a role of catalyzer.The insertion of hydrogen atoms into the interlayers of V2O5 causes the transformation of V5+ to V4+,and as a result,causes the changes in transmitance of the films.

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期刊信息
  • 《武汉理工大学学报》
  • 北大核心期刊(2011版)
  • 主管单位:中国教育部
  • 主办单位:武汉理工大学
  • 主编:周祖德
  • 地址:武昌珞狮路122号
  • 邮编:430070
  • 邮箱:whlgdxxb@whut.edu.cn
  • 电话:027-87651953 87397739
  • 国际标准刊号:ISSN:1671-4431
  • 国内统一刊号:ISSN:42-1657/N
  • 邮发代号:38-41
  • 获奖情况:
  • 全国建材优秀科技期刊,湖北高校先进学报期刊编辑部,湖北科技期刊编辑学会先进集体
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘(网络版),美国剑桥科学文摘,英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),英国英国皇家化学学会文摘
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