欢迎您!
东篱公司
退出
申报数据库
申报指南
立项数据库
成果数据库
期刊论文
会议论文
著 作
专 利
项目获奖数据库
位置:
成果数据库
>
期刊
> 期刊详情页
Effect of Discharge Parameters on Properties of Diamond-Like Carbon Films Prepared by Dual-Frequency Capacitively Coupled Plasma Source
ISSN号:1009-0630
期刊名称:《等离子体科学与技术:英文版》
时间:0
分类:O531[理学—等离子体物理;理学—物理] TG174.444[金属学及工艺—金属表面处理;金属学及工艺—金属学]
作者机构:[1]Jiangsu Key Laboratory of Thin Films, School of Physical Science and Technology Soochow University, Suzhou 215006, China
相关基金:supported by National Natural Science Foundation of China (No. 10775103)
作者:
杨磊[1], 辛煜[1], 徐海鹏[1], 虞一青[1], 宁兆元[1]
关键词:
等离子体源, 类金刚石碳, 电容耦合, 薄膜性能, 放电参数, 薄膜制备, 等离子体增强化学气相沉积, 双频, dual-frequency capacitively coupled discharge, DLC, Raman spectroscopy
中文摘要:
E-mail address of YANG Lei: lyang_19850821@yahoo.com.cn
同期刊论文项目
甚高频阵列式容性耦合等离子体源的放电特性及均匀性研究
期刊论文 23
会议论文 5
著作 1
同项目期刊论文
Effect of Discharge Parameters on Properties of Diamond-Like Carbon Films Prepared by Dual-Frequency
The influence of Exciting Frequency on N-2 and N-2(+) Vibrational Temperature of Nitrogen Capacitive
频率组合对容性耦合等离子体SiO2刻蚀的影响
射频激发容性耦合等离子体空间的不均匀性实验研究
A simplified collisional-radiative model for characterization of a low pressure capacitively coupled
Influence of exciting frequency on gas and ion rotational temperatures of nitrogen capacitively coup
Spectroscopic study on rotational and vibrational temperature of N-2 and N-2(+) in dual-frequency ca
Investigation on capacitively coupled argon plasma driven by dual frequency with different frequency
Response to "Comment on 'Influence of exciting frequency on gas and ion rotational temperatures of n
Effect of NH3 flow rate on growth, structure and luminescence of amorphous silicon nitride films by
Effect of 13.56 MHz low-frequency power on electrical characteristic of 60 MHz radio-frequency capac
Effect of low-frequency power on dual-frequency capacitively coupled plasmas
Characteristics of electron energy distribution function of capacitively coupled plasma excited by 6
不同激发频率下小型感应耦合等离子体特性研究
Analysis of optical emission spectroscopy in a dual-frequency capacitively coupled CHF3 plasma
13.56MHz低频功率对60MHz射频容性耦合等离子体的电特性的影响
60MHz电容耦合等离子体中电子能量分布函数特性研究
Diagnosis of a low pressure capacitively coupled argon plasma by using a simple collisional-radiative model
40.68MHz激发的N_2容性耦合等离子体径向不均匀性研究
放电参数对不同频率驱动的容性耦合氩等离子体影响的研究
期刊信息
《等离子体科学与技术:英文版》
主管单位:中国科学院 中国科协
主办单位:中国科学院等离子体物理研究所 中国力学学会
主编:万元熙、谢纪康
地址:合肥市1126信箱
邮编:230031
邮箱:pst@ipp.ac.cn
电话:0551-5591617 5591388
国际标准刊号:ISSN:1009-0630
国内统一刊号:ISSN:34-1187/TL
邮发代号:
获奖情况:
国内外数据库收录:
美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国剑桥科学文摘,美国科学引文索引(扩展库),英国科学文摘数据库
被引量:89