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PECVD方法制备的金刚石膜的慢正电子束研究
  • 所属机构名称：中国科学技术大学
  • 成果类型：著作
  • 出版社：核技术
  • 语言：中文
  • 相关项目：化合物半导体SiC的缺陷性质研究及慢正电子束装置改进
作者： 徐燕|翁惠民|叶邦角|周海洋|朱晓东|王海云|彭成晓|周先意|韩荣典|
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