位置:成果数据库 > 会议 > 会议详情页
Effect of Electromigration on Intermetallic Compound Formation in Cu/Sn/Cu Interconnect
  • 所属机构名称:大连理工大学
  • 会议名称:2009 International Conference on Electronic Packaging Technology & High Density Packaging(2009 电
  • 成果类型:会议
  • 会场:北京
  • 相关项目:无铅化电子封装钎焊界面反应及焊点可靠性的基础研究
同会议论文项目
同项目会议论文