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不同衬底材料的ZnO/Si异质结I-V及光电特性
  • ISSN号:0253-2778
  • 期刊名称:《中国科学技术大学学报》
  • 时间:0
  • 分类:TN303[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]中国科学技术大学物理系,安徽合肥230026, [2]中国科学技术大学国家同步辐射实验室,安徽合肥230027, [3]中国科学技术大学合肥微尺度物质科学国家实验室,安徽合肥230026
  • 相关基金:国家自然科学基金(50132040)和中国科学院知识创新项目(KJCX2-SW-04)资助.
中文摘要:

采用脉冲激光沉积(PLD)技术和微电子平面工艺,用不同表面掺杂的Si作为衬底制备了ZnO/Si异质结,并且以p-Si(p-)为衬底制备了ZnO(含Mn0.2%)/Si异质结、包含SiC缓冲层的ZnO/SiC/Si和ZnO(含Mn0.2%)/SiC/Si结构,测试了样品的XRD曲线、I-V特性曲线和P-E(光电响应)特性曲线.结果发现ZnO/n-Si结有很低的反向暗电流,SiC缓冲层能提高反向击穿电压,ZnO/p—Si(p+)异质结能有较强的光电响应,ZnO/n-Si(n-)更适合作为大波段区间的光探测器.还发现波长470,480,490nm处类似于声子伴线的光谱结构.

英文摘要:

ZnO/Si heterojunctions on different surfaces of variously doped silicon was prepared by means of the pulsed laser deposition technology (PLD) and microelectronics technology plane, and the structure of ZnO (including Mn 0.2%)/Si, ZnO/SiC/Si, ZnO (including Mn 0.2%)/SiC/Si on p-Si(p-) taking SiC as the buffer layer was also prepared. The curve of XRD, I-V characteristic and spectral response was measured. It was found that the reverse current of ZnO/n-Si heterojunction is low, the buffer layer of SiC can improve the reverse breakdown voltage, the photoelectric response of ZnO/p-Si(p+) heterojunction is more intense, and ZnO/n-Si(n- ) is more suited to be a big-band range of photodetectors. In the Figures of P-E, peaks at 470 nm, 480 nm, 490 nm (wavelength) look like assisted phonon replicas.

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期刊信息
  • 《中国科学技术大学学报》
  • 北大核心期刊(2011版)
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国科学技术大学
  • 主编:何多慧
  • 地址:安徽省合肥市金寨路96号
  • 邮编:230026
  • 邮箱:JUST@USTC.EDU.CN
  • 电话:0551-63601961 63607694
  • 国际标准刊号:ISSN:0253-2778
  • 国内统一刊号:ISSN:34-1054/N
  • 邮发代号:26-31
  • 获奖情况:
  • 1999年,全国优秀高等学校自然科学学报及教育部优...,2001年,安徽省1999-2001年度优秀科技期刊一等奖,2002年,第三届华东地区优秀期刊奖
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘(网络版),美国数学评论(网络版),德国数学文摘,荷兰文摘与引文数据库,美国剑桥科学文摘,英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:8237