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中频磁控溅射沉积AlNx薄膜原子力形貌
  • ISSN号：1671-833X
  • 期刊名称：《航空制造技术》
  • 时间：0
  • 分类：V26[航空宇航科学与技术—航空宇航制造工程;航空宇航科学技术]
  • 作者机构：[1]大连理工大学三束材料改性国家重点实验室 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室
  • 相关基金：国家自然科学基金青年基金(50407015)资助项目.
作者： 牟宗信[1], 王振伟[1], 刘升光[1], 赵华玉[1]
关键词： 磁控溅射, 物理化学气相沉积, 氮化铝
中文摘要：

在不同的氮气比例下,固定其他的放电条件,采用中频磁控测射沉积技术在常温下沉积AlNx薄膜.通过原子力显微镜研究了氮气比例对AlNx薄膜形貌和薄膜表面均方根粗糙度的影响.

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期刊信息
  • 《航空制造技术》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国航空工业集团公司
  • 主办单位:北京航空制造工程研究所
  • 主编：刘柱
  • 地址：北京市朝阳区八里桥北东军庄1号
  • 邮编：100024
  • 邮箱：lzm@amte.net.cn
  • 电话：010-85700465
  • 国际标准刊号：ISSN：1671-833X
  • 国内统一刊号：ISSN：11-4387/V
  • 邮发代号:82-26
  • 获奖情况:
  • 中文核心期刊,中国科技论文统计用刊,中国期刊方阵“双百”期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊（2011版）
  • 被引量:10629