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套刻偏差对4H-SiC浮动结结势垒肖特基二极管的影响研究
  • ISSN号:1000-3290
  • 期刊名称:《物理学报》
  • 时间:0
  • 分类:TN311.7[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]西安电子科技大学微电子学院,宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室,西安710071
  • 相关基金:国家自然科学基金(批准号:61006060)和宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室基金(批准号:JYOlOOll2501)资助的课题.
中文摘要:

4H-SiC浮动结结势垒肖特基二极管与常规结势垒肖特基二极管相比在相同的导通电阻条件下具有更高的击穿电压.由P+埋层形成的浮动结与主结P+区之间的套刻对准是实现该结构的一项关键技术.二维模拟软件ISE的模拟结果表明,套刻偏差的存在会明显影响器件的击穿特性,随着偏差的增大击穿电压减小.尽管主结和埋层的交错结构与对准结构具有相似的击穿特性,但是当正向电压大于2V后,交错结构的串联电阻更大.

英文摘要:

The breakdown voltage of 4H-SiC junction barrier schottky diode with floating junction is larger than that of traditional junction barrier Schottky diode under the condition of the same fixed on-resistance. It is a crucial technology that the alignment of lithography between p+ region of floating junction and main junction. The simulation results obtained using two-dimensional simulator ISE show that the breakdown voltage obviously drops with the deviation of lithography increasing. Although the breakdown characteristics of the dislocation and the alignment structure are similar, the series resistance of the dislocation structure is larger than the latter when the forward voltage is larger than 2 V.

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期刊信息
  • 《物理学报》
  • 北大核心期刊(2011版)
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国物理学会 中国科学院物理研究所
  • 主编:欧阳钟灿
  • 地址:北京603信箱(中国科学院物理研究所)
  • 邮编:100190
  • 邮箱:apsoffice@iphy.ac.cn
  • 电话:010-82649026
  • 国际标准刊号:ISSN:1000-3290
  • 国内统一刊号:ISSN:11-1958/O4
  • 邮发代号:2-425
  • 获奖情况:
  • 1999年首届国家期刊奖,2000年中科院优秀期刊特等奖,2001年科技期刊最高方阵队双高期刊居中国期刊第12位
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国科学引文索引(扩展库),英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:49876