位置：成果数据库 > 期刊 > 期刊详情页
Preparation of TiN Films on AZ91C by Cathode Multi Arc Ion and Its Performance
  • ISSN号：1001-4373
  • 期刊名称：《兰州交通大学学报》
  • 时间：0
  • 分类：TG135.6[金属学及工艺—合金;一般工业技术—材料科学与工程;金属学及工艺—金属学]
  • 作者机构：[1]Key Laboratory of Opto-Electronic Technology and Intelligence Control, Ministry of Education, Lanzhou Jiaotong University, Lanzhou 730070, China, [2]State Key Laboratory for Manufacturing Systems Engineering, Xi＇an Jiaotong University, Xi＇an 710049, China
  • 相关基金：Acknowledgement This work was supported by the National Science Support Program （2006BAE04B05-3）, MOE Program for Changjiang Scholars and Innovative Research Team （grant No. 0629）,National Science Founda- tion of China （grant No. 50505037）,863 Hi-Tech Program （grant No. 2006AA04Z322 and ＂Qing Lan＂Talent Engineering Funds by Lanzhou Jiaotong University）.
作者： Fan Duowang[1], Wang Chenglong[1], Ling Xiaoming[1], Zhao Lin[1], Liu Hongzhong[2]
关键词： 阴极多相电极离子, 薄膜, PVD覆膜, 镁合金, 氮化钛, 耐磨损性能
中文摘要：

Biography： Fan Duowang（1955-）, male, born in Yongjing Country, Gansu Province, Professor.

同期刊论文项目
聚合物太阳能电池p-n异质结界面的三维微结构压印成形
期刊论文 34 会议论文 3
　柔性基宏电子制造中微结构的大面积逆压印技术
期刊论文 6
同项目期刊论文
退火气氛对铝诱导a-Si薄膜结晶过程的影响
Investigation of ink transfer in roller-reversal imprint process
A novel loading and demoulding process control in UV nanoimprint lithography
Alignment measurement method for imprint lithography using moiré fringe pattern
下一代光刻技术—压印光刻
压印光刻忠模具空间位姿的识别及仿真
释放保型软压印光刻工艺
Development of a step micro-imprint lithography tool
A novel overlay process for imprint lithography using load release and alignment error pre—compensat
Two-Step curing method for demoulding in UV nanoimprint lithography
纳米压印光刻中的多步定位研究
压印光刻对准中阻蚀胶层的设计及优化
紫外压印中阻蚀胶残膜刻蚀工艺
高精度压印机热误差补偿中温度变量的辨识
基于纳米压印技术的光伏器件微三维构型研究
紫外光固化中阻蚀胶薄膜应力分析及成膜控制
步进闪光压印光刻模具制作工艺研究
Fabrication of carbon nanotube arrays for field emission and sensor devices
Distortion reduction by Load Release for Imprint Lithography
Roller-reversal imprint for preparation of large area microstructures
Review of the wafer stage for nanoimprint lithography
不同形貌衬底上铝诱导poly—Si薄膜的制备及表征
Study of Carbon Nano-Tube Photo-electronic Devices by Nano-Imprint Lithography
Soft Imprint Lithography for Pixel Array Manufacturing in OLED
基于光刻版的无留膜紫外纳米压印技术研究
Preparation of TiOx Films by Cathode Multi Arc Ion and Its Performance
叶绿体长延时（τ〉5s）荧光成分产生机理的实验验证
植物光诱导延迟发光介导的酸性环境污染监测
基于分步式压印光刻的激光干涉仪纳米级测量及误差研究
镁合金表面Ti—TiN复合镀层的阴极多弧离子制备与表征
下一代光刻技术——压印光刻
AZ91C镁合金表面Ti-TiN复合镀层的阴极多弧离子镀法制备与表征
红外光谱法测定农药中吡虫啉含量
Study of Carbon Nano-Tube Photo-electronic Devices by Nano-Imprint Lithography
Soft Imprint Lithography for Pixel Array Manufacturing in OLED
Preparation of TiOx Films by Cathode Multi Arc Ion and Its Performance
下一代光刻技术——压印光刻
基于全电子设计方案的区域计算机联锁系统
期刊信息
  • 《兰州交通大学学报》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:甘肃省教育厅
  • 主办单位:兰州交通大学
  • 主编：严松宏
  • 地址：甘肃省兰州市安宁西路88号
  • 邮编：730070
  • 邮箱：xbbjb@mail.lzjtu.cn
  • 电话：0931-4938677
  • 国际标准刊号：ISSN：1001-4373
  • 国内统一刊号：ISSN：62-1183/U
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 2000年获得中国学术期刊数据规范（CDJ-CD）执行优秀奖,1999年获得国家新闻出版署和教育部颁发的“全国优...,1992年获全国高等学校综合数据库质量三等奖
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘（网络版）,德国数学文摘,中国中国科技核心期刊
  • 被引量:6310