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基于光刻版的无留膜紫外纳米压印技术研究
  • ISSN号：1003-8213
  • 期刊名称：《微细加工技术》
  • 时间：0
  • 分类：TN305.7[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构：[1]西安交通大学,机械制造系统工程国家重点实验室,西安,710049 西安交通大学,机械制造系统工程国家重点实验室,西安,710049 西安交通大学,机械制造系统工程国家重点实验室,西安,710049
  • 相关基金：国家自然科学基金资助项目(50505037);国家重点基础研究发展计划资助项目(2003CB716203)
作者： 张亚军[1], 丁玉成[1], 卢秉恒[1]
关键词： 纳米压印, 光刻, 留膜
中文摘要：

针对纳米压印光刻技术中压印脱模后的留膜去除问题,提出了一种基于光刻版的无留膜紫外纳米压印技术.采用传统的光刻版作为紫外压印模版,由于模版上铬层的遮蔽作用.使得铬层下面的光刻胶不被曝光,从而可以轻易地被去除.实验结果表明,该技术综合了压印与光刻各自的优点,可以获得无留膜厚度的压印图形,省去了压印后的留膜刻蚀工艺.从而避免了由于留膜厚度不均匀所带来的过刻蚀或欠刻蚀的问题.

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期刊信息
  • 《微细加工技术》
  • 主管单位:信息产业部
  • 主办单位:中国电子科技集团公司第48研究所
  • 主编：伍三忠
  • 地址：长沙市第96号信箱301分箱（长沙黑石铺）
  • 邮编：410111
  • 邮箱：
  • 电话：0731-2891478
  • 国际标准刊号：ISSN：1003-8213
  • 国内统一刊号：ISSN：43-1140/TN
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 中文核心期刊,国家一级检索刊物用刊
  • 国内外数据库收录:
  • 荷兰文摘与引文数据库
  • 被引量:1695