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硅基锗材料的外延生长及其应用
  • ISSN号:1681-5289
  • 期刊名称:中国集成电路
  • 时间:0
  • 页码:71-78
  • 语言:中文
  • 分类:TN304[电子电信—物理电子学] TN304.054[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]湖南化工机械学校 湖南工业技术学院,412011, [2]中国科学院半导体研究所集成光电子学国家重点实验室,100083
  • 相关基金:“973”课题(2007CB613404); 国家自然科学基金项目(60676005); “863计划”项目(2006AA03Z415)的资助
  • 相关项目:绝缘层上SiGe材料的制备及弛豫机理研究
中文摘要:

硅是最重要的半导体材料,在信息产业中起着不可替代的作用。但是硅材料也有一些物理局限性,比如它是间接带隙半导体材料,它的载流子迁移率低,所以硅材料的发光效率很低,器件速度比较慢。在硅衬底上外延生长其它半导体材料,可以充分发挥各自的优点,弥补硅材料的不足。本文介绍了硅衬底上的锗材料外延生长技术进展,讨论了该材料在微电子和光电子等方面的可能应用,重点介绍了它在硅基高速长波长光电探测器研制方面的应用。

英文摘要:

Silicon is the most important semiconductor material and it is irreplaceable in the information industry.But Silicon also has some shortcomings,such as very lowluminescence efficiency and low device speed due to the indirect bandgap and low carrier mobility.Growing other semiconductors on Si substrate can take the advantages of the different semiconductors and improve the performance of the Si-based devices and integrated circuits.The progress of Ge growth on Si was introduced in the paper.The application of the Si-based Ge epitaxy layer was discussed,especially the application on Si-based high speed photodetectors operating at long wavelength.

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期刊信息
  • 《中国集成电路》
  • 主管单位:中华人民共和国工业和信息化部
  • 主办单位:中国半导体行业协会
  • 主编:王正华 魏少军
  • 地址:北京市顺义区仁和镇顺和花园一区15号楼二单元501室
  • 邮编:101300
  • 邮箱:Wangzh@cidc.com.cn
  • 电话:010-64372248
  • 国际标准刊号:ISSN:1681-5289
  • 国内统一刊号:ISSN:11-5209/TN
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