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常压等离子体增强化学气相沉积纳米晶TiO2多孔薄膜的研究
  • ISSN号：1671-0444
  • 期刊名称：《东华大学学报：自然科学版》
  • 时间：0
  • 分类：O539[理学—等离子体物理;理学—物理]
  • 作者机构：[1]东华大学材料科学与工程学院,上海201620, [2]东华大学理学院,上海201620
  • 相关基金：长江学者和创新团队发展计划资助（IRT0526）;自然科学基金（50473003;J0775031）;国家自然科学基金重点项目（10835004）
作者： 李岩[1], 徐绍魁[2], 徐金洲[2], 张菁[2]
关键词： 等离子体增强化学气相沉积(PE-CVD), TiO2多孔薄膜, 纳米晶结构, plasma-enhanced chemical vapour deposition （PE-CVD）, porous TiO2 thin film, nanocrystalline structure
中文摘要：

采用等离子体增强化学气相沉积（PE-CWD）的方法及TiCl4／O2混合气体在常温常压下可制备纳米晶TiO2多孔薄膜．利用偏光显微镜分析（PM）、扫描电子显微镜分析（SEM）、高分辨透射电镜分析（HRTEM）、X光衍射分析（XRD）等检测手段，系统地对纳米晶TiO2多孔膜表面形貌以及成分进行表征．研究结果表明：使用等离子体化学气相沉积方法，可以在常温常压下快速沉积纳米晶TiO2多孔薄膜，并且PE-CVD与传统的化学方法相比具有低能耗、低污染、方法简便、成本低等优点，是具有良好发展前景的纳米晶多孔薄膜制备新方法．

英文摘要：

Porous nanocrystalline TiO2 thin film was deposited on glass substrates by dielectric barrier discharge plasma-enhanced chemical vapour deposition （PE - CVI）） with pulsed bias voltage and TiCl4/O2 mixture. The chemical composition and the surface structure were analyzed with Polarizing Microscope （PM）, Scanning Electron Microscope （SEM）, High Resolution Transmission Electron Microscope （HRTEM）, X- ray Diffraction （XRD） etc. Experiment results show that the film could be obtained in a short single step at atmospheric pressure and room temperature. And the method is environment-friendly. All of these make it a promise method to fabricate porous nanocrystalline thin film, which has potential applications in photocatalysts, photovoltaic, biocompatibility and sanitary.

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期刊信息
  • 《东华大学学报：自然科学版》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中华人民共和国教育部
  • 主办单位:东华大学
  • 主编：王善元
  • 地址：上海市延安西路1882号
  • 邮编：200051
  • 邮箱：xuebao@dhu.edu.cn
  • 电话：021-62373643
  • 国际标准刊号：ISSN：1671-0444
  • 国内统一刊号：ISSN：31-1865/N
  • 邮发代号:4-123
  • 获奖情况:
  • 1996年获纺织工业总会核心期刊,1996年高校学报评比二等奖
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘（网络版）,波兰哥白尼索引,美国剑桥科学文摘,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊（2004版）,中国北大核心期刊（2008版）,中国北大核心期刊（2011版）,中国北大核心期刊（2014版）
  • 被引量:6715