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65nm体硅CMOS工艺器件尺寸对其脉冲削减效应的影响
  • ISSN号:1006-2467
  • 期刊名称:《上海交通大学学报》
  • 时间:0
  • 分类:TN386.1[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]国防科学技术大学计算机学院,长沙410073
  • 相关基金:国家自然科学基金项目(60906009,61076025,60970036)
中文摘要:

利用电路级模拟方法,在65nm体硅CMOS工艺条件下研究了器件尺寸对其脉冲削减效应的影响.结果表明,当被动反相器的尺寸改变时,脉冲削减效应的变化趋势与其内部双极放大效应的强弱有关.在双极放大效应较强时,脉冲削减效应随尺寸的增加而增强;反之,则其脉冲削减效应随尺寸的增加而减弱.

英文摘要:

The connection between the size of passive inverter and trend of pulse quenching was studied by using circuit level simulation under 65nm bulk complementary metal-oxide-semiconductor transistor (CMOS) process. It is found that bipolar amplification plays an important role in pulse quenching trend after changing the size of passive inverter. Pulse quenching will be zoomed in after increasing the size of passive inverter, whose inner bipolar amplification is stronger. In the contrast, pulse quenching will be zoomed out after increasing the size of passive inverter.

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期刊信息
  • 《上海交通大学学报》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中华人民共和国教育部
  • 主办单位:上海交通大学
  • 主编:郑杭
  • 地址:上海市华山路1954号15F
  • 邮编:200030
  • 邮箱:shjt@chinajournal.net.cn
  • 电话:021-62933373 62932534
  • 国际标准刊号:ISSN:1006-2467
  • 国内统一刊号:ISSN:31-1466/U
  • 邮发代号:4-256
  • 获奖情况:
  • 1996年全国优秀科技期刊奖,1992年、1996年、1999年国家教育部系统优秀科技期刊奖,2002年“百种重点期刊奖”,2003年百种中国杰出学术期刊,2004年教育部全国高校优秀科技期刊一等奖,2004年“百种重点期刊奖”
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),美国数学评论(网络版),德国数学文摘,荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国剑桥科学文摘,英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:30903