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高深宽比硅基微纳结构制造方法及其应用
  • ISSN号:1003-353X
  • 期刊名称:《半导体技术》
  • 时间:0
  • 分类:TN303[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]中北大学电子与计算机科学技术学院仪器科学与动态测试教育部重点实验室,太原030051
  • 相关基金:国家自然科学基金资助项目(51075374)
中文摘要:

三维高深宽比硅基结构是基于微纳制造技术的功能载体或执行机构。其由于小尺寸特征而获得特殊的微纳效应,具有灵敏度高、分辨率高、噪声低、位移量小等特点,在光电、生物、微能源和集成互连等技术领域具有广泛应用前景。主要分析了高深宽比硅基微纳结构的种类及特点;系统综述了该结构的制造方法及国内外研究现状;详细描述了不同外形特征结构的应用领域;从工艺标准、建模仿真、批量生产等方面讨论了高深宽比硅基微纳结构制造存在的技术瓶颈问题,并对高深宽比硅基微纳结构的可靠制造与发展趋势进行了展望。

英文摘要:

Three-dimensional silicon nanometer fabrication technology are used microstructures with high aspect ratio based on micro/ as function carriers or actuators. The microstructures with special micro/nanometer effects because of the microminiaturization are widely applied in the technology fields of photoelectric, biology, micro-power and integrated interconnection due to the high sensitivity, low noise, high resolution and small displacement. The types and features of silicon micro/nanometer structures with high aspect ratio are mainly analyzed. The fabrication method and current situation are systematically summarized from abroad and home. The application fields of different shape structures are described in detail. The technical bottlenecks are discussed from technological standard, modeling, simulation and mass production; The reliable manufacturing and development tendency of silicon micro/ nanometer structures are proposed.

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期刊信息
  • 《半导体技术》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国电子科技集团公司
  • 主办单位:中国电子科技集团公司第十三研究所
  • 主编:赵小玲
  • 地址:石家庄179信箱46分箱
  • 邮编:050051
  • 邮箱:informax@heinfo.net
  • 电话:0311-87091339
  • 国际标准刊号:ISSN:1003-353X
  • 国内统一刊号:ISSN:13-1109/TN
  • 邮发代号:18-65
  • 获奖情况:
  • 中文核心期刊,中国科技论文统计用刊
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘(网络版),美国剑桥科学文摘,英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:6070