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碱液环境下电化学腐蚀多晶硅的研究
  • ISSN号:1001-5868
  • 期刊名称:《半导体光电》
  • 时间:0
  • 分类:TM914.4[电气工程—电力电子与电力传动]
  • 作者机构:[1]浙江师范大学材料物理系,浙江金华321004
  • 相关基金:国家自然科学基金项目(61076055); 复旦大学应用表面物理国家重点实验室开放课题(KL2011_04)
中文摘要:

主要介绍了在NaOH溶液中,利用电化学技术腐蚀制备多晶硅绒面的新方法。实验中,通过改变腐蚀液浓度、腐蚀电压、腐蚀温度等因素,制得一系列多晶硅绒面。实验结果表明,当腐蚀碱液浓度为20%,腐蚀电压为20V,腐蚀温度为25℃时,腐蚀得到的硅片表面比较均匀,在波长400~800nm范围内,测量得表面反射率最低为19%左右。

英文摘要:

Introduced is a new method for preparing polycrystalline textured surface corrosion by means of electrochemical technique in alkaline solution.A series of textured polycrystalline silicon were fabricated under different corrosive concentrations,voltages and temperatures.The results indicate that the stable and uniform textured polycrystalline silicon can be obtained under the corrosion concentration of 20%,the corrosion voltage of 20V and the temperature of 25℃.And the lowest surface reflectance of the obtained silicon is measured to be 19% in the wavelength range of 400~800nm by spectrophotometer.

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期刊信息
  • 《半导体光电》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:信息产业部
  • 主办单位:中国电子科技集团公司第四十四研究所(重庆光电技术研究所)
  • 主编:江永清
  • 地址:重庆市南岸区南坪花园路14号
  • 邮编:400060
  • 邮箱:soe@163.net
  • 电话:023-65860286
  • 国际标准刊号:ISSN:1001-5868
  • 国内统一刊号:ISSN:50-1092/TN
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 重庆市首届十佳期刊称号,1999年,信息产业部1999-2000年度优秀电子期刊称号
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:5924