中文摘要：

本研究项目拟对大型离子刻蚀机用矩形大面积、高均匀性射频离子源及有关离子刻蚀工艺的关键技术问题进行研究，对射频感应耦合（RF ICP）离子源的结构、离子流的引出、离子流的均匀性及中性化、射频匹配网络等进行研究，对射频感应耦合等离子体腔的结构和射频耦合方式进行优化设计，以期获得最佳的阻抗匹配并在等离子体放电室内获得大面积均匀等离子体；对离子源引出和加速系统进行数值模拟，建立离子光学系统数值模拟的物理模

结论摘要：

本研究项目对大型离子刻蚀机用矩形大面积、高均匀性射频离子源及有关离子刻蚀工艺的关键技术问题进行研究，对射频感应耦合（RF ICP）离子源的结构、离子流的引出、离子流的均匀性及中性化、射频匹配网络等进行研究，对射频感应耦合等离子体腔的结构和射频耦合方式进行优化设计，以期获得最佳的阻抗匹配并在等离子体放电室内获得大面积均匀等离子体；对离子源引出和加速系统进行数值模拟，建立离子光学系统数值模拟的物理模型，编写相关程序，为离子源的最佳引出- - 加速系统的优化设计提供理论依据；根据理论分析、模拟计算和实验提出一套矩形大面积射频离子源的设计方案及离子束刻蚀的优化运行参数。其成果将在高衍射效率、大刻划面积全息及全息离子刻蚀光栅和大面积高清晰的平板显示器的制造方面有着广阔的应用前景，对提高我国在微米和纳米量级的微电子学、集成光学、微机械系统的超细微加工的技术水平有着极其重要的作用。