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非平衡磁控溅射沉积TiN/Ti-O复合薄膜机械性能研究
  • ISSN号：1672-7126
  • 期刊名称：真空科学与技术学报
  • 时间：0
  • 页码：303-306
  • 语言：中文
  • 分类：TB381[一般工业技术—材料科学与工程]
  • 作者机构：[1]西南交通大学材料科学与工程学院, [2]成都, [3]成都610031西南交通大学材料先进技术教育部重点实验室成都
  • 相关基金：国家自然科学基金重点项目(No.50535050);; 四川省科技攻关项目(No.2006J02-006-4);; 表面物理与化学国家重点实验室基金资助(No.90000460200605)
  • 相关项目：植入假体的生物摩擦学关键基础问题研究
作者： 冷永祥|黄楠|何婵|齐峰|
关键词： TiN/Ti-O复合薄膜, 非平衡磁控溅射, 耐磨性, 膜基结合力, TiN/Ti-O complex film, Unbalanced magnetron sputtering, Wear resistance, Adhesion
中文摘要：

本文利用非平衡磁控溅射设备,采用四种不同的TiN到Ti-O的过渡方式,在Si(100)和Ti6Al4V基体上制备了TiN/Ti-O薄膜。采用X射线衍射(XRD)分析薄膜的结构;使用AMBIOSXP-2台阶仪检测薄膜应力;利用HXD1000Bknoop型显微硬度仪、瑞士CSEM销盘摩擦磨损实验机、WS—97系统划痕实验机对薄膜的力学性能进行检测。结果表明,在钛合金表面制备TiN薄膜后,逐渐降低N2流量至0sccm,沉积一层Ti膜,再用逐渐通入O2制备Ti-O薄膜的工艺制备的TiN/Ti-N/Ti/Ti-O薄膜具有较好的力学性能。

英文摘要：

The TiN/Ti-O composite films were deposited by unbalanced magnetron sputtering on silicon(100)and titanium alloy(Ti6Al4V)substrates.The microstructures and mechanical properties of the films were characterized with X-ray diffraction(XRD),scanning electron microscopy(SEM)and conventional mechanical probes.The results show that the film growth conditions strongly affect the mechanical properties of the Ti-O layers on top of the TiN-covered Ti substrates.For example,the TiN/Ti-O composite films display excelle...

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期刊信息
  • 《真空科学与技术学报》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学技术协会
  • 主办单位:中国真空学会
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  • 地址：北京朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
  • 邮编：100022
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  • 国际标准刊号：ISSN：1672-7126
  • 国内统一刊号：ISSN：11-5177/TB
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘（网络版）,荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊（2004版）,中国北大核心期刊（2008版）,中国北大核心期刊（2011版）,中国北大核心期刊（2014版）,英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊（2000版）
  • 被引量:4421