针对碲镉汞材料工艺中遇到的基本物理特性体现的统计性特点,引入材料芯片研究方法对碲镉汞p-n结特性和形成工艺进行研究。应用材料芯片技术高效率、高可比性信息快速获取的优点、寻找出关于优质p-n结构的形成起着真正制约作用的物理起源。在统计性研究基础上,澄清p-n结形成中物理模型方面的争议,获得优化p-n结特性的具体可行方向。
英文主题词ion implantation; material chip; HgCdTe; optimization; statistical pattern