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Cu-Ni扩散反应层形成的TFDC模型
  • ISSN号：1002-185X
  • 期刊名称：《稀有金属材料与工程》
  • 时间：0
  • 分类：TG111.1[金属学及工艺—物理冶金;金属学及工艺—金属学]
  • 作者机构：中国石油大学(华东)机电工程学院,山东青岛266580
  • 相关基金：国家自然科学基金面上项目“相界扩散溶解的TFDC模型”（50371059）
作者： 宋玉强, 张振亚, 李敏
关键词： 金属物理学, 扩散连接, TFDC电子理论, 扩散反应层, CU-NI, TFDC模型, 界面
中文摘要：

TFDC（Thomas- Fermi-Dimc-Cheng）电子理论的核心思想是“材料研究中,界面边界条件起着十分重要的作用,其边界 条件是电子密度处处连续”. 建立Cu/M 相界面扩散反应的TFDC模型对于扩散连接工艺中相界面扩散反应的研究具有 重要的意义.文中以Cu-Ni相界面为例,首先依据TFDC电子理论、利用其电子密度处处连续的边界条件,论述了 Cu/M 相界面扩散反应层的形成和生长,然后建立了Cu/Ni相界面扩散反应的TFDC模型.扩散反应层的形成和长大是各相层 界面电子密度连续的结果,二元金属扩散反应层的研究可以借助于TFDC电子理论进行深入研究.

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期刊信息
  • 《稀有金属材料与工程》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学技术协会
  • 主办单位:中国有色金属学会 中国材料研究学会 西北有色金属研究院
  • 主编：张平祥
  • 地址：西安市51号信箱
  • 邮编：710016
  • 邮箱：RMME@c-nin.com
  • 电话：029-86231117
  • 国际标准刊号：ISSN：1002-185X
  • 国内统一刊号：ISSN：61-1154/TG
  • 邮发代号:52-172
  • 获奖情况:
  • 首届国家期刊奖,中国优秀期刊一等奖,中国有色金属工业优秀期刊1等奖
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘（网络版）,荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国科学引文索引（扩展库）,英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊（2004版）,中国北大核心期刊（2008版）,中国北大核心期刊（2011版）,中国北大核心期刊（2014版）,中国北大核心期刊（2000版）
  • 被引量:24715