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Experimental Investigation of Border Trap Generation in InGaAs nMOSFETs With Al2O3 Gate Dielectric U
  • ISSN号:0018-9383
  • 期刊名称:IEEE Transactions on Electron Devices
  • 时间:2012
  • 页码:1661-1667
  • 相关项目:纳米CMOS器件的可靠性表征技术、失效机理及预测模型研究
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