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SiC epitaxial layers grown by chemical vapour deposition and the fabrication of Schottky barrier dio
  • ISSN号：1674-1056
  • 期刊名称：Chinese Physics B
  • 时间：0
  • 页码：036803-1-036803-5
  • 语言：英文
  • 相关项目：碳化硅金属-半导体双极型晶体管的研究
作者： Wang, Yue-Hu|Zhang, Yi-Men|Zhang, Yu-Ming|Jia, Ren-Xu|Zhang, Lin|Chen, Da|
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期刊信息
  • 《中国物理B：英文版》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国物理学会和中国科学院物理研究所
  • 主编：欧阳钟灿
  • 地址：北京 中关村 中国科学院物理研究所内
  • 邮编：100080
  • 邮箱：
  • 电话：010-82649026 82649519
  • 国际标准刊号：ISSN：1674-1056
  • 国内统一刊号：ISSN：11-5639/O4
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 国内外数据库收录:
  • 被引量:406