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Electrical properties of MOCVD grown GaN on Si (111) substrate with low-temperature AlN interlayers
  • 期刊名称:Chinese Physics B
  • 时间:2013.2.4
  • 页码:088104-
  • 相关项目:常关型宽禁带氮化镓MOS场效应晶体管的研究
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