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Improvement of Al2O3 Films on Graphene Grown by Atomic Layer Deposition with Pre-H2O Treatment
  • 期刊名称:ACS Appl. Mater. Interfaces
  • 时间:2014
  • 页码:7014-7019
  • 相关项目:Ⅲ-Ⅴ族半导体衬底上铪基高k栅介质界面特性研究
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