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沉积时间对磁控溅射法制备宽禁带半导体薄膜材料ZnS物性及光学性质的影响
  • ISSN号:1002-0322
  • 期刊名称:《真空》
  • 时间:0
  • 分类:O472[理学—半导体物理;理学—物理]
  • 作者机构:[1]北京工业大学应用数理学院,北京100124
  • 相关基金:国家自然科学基金资助项目(批准号:60876006;60376007);北京市教育委员会科技计划重点项目资助(批准号:KZ201410005008).
中文摘要:

在沉积时间分别为1 h、1.5 h、2 h及2.5 h的条件下,分别用磁控溅射法制备了Zn S薄膜,用XRD、SEM、台阶仪、椭偏仪等实验仪器进行物性检测,最终发现,沉积时间越长的薄膜,晶粒越小,密度越大,折射率越大;消光系数受晶粒大小、晶界多少、孔隙率等多种因素影响,呈现复杂变化。

英文摘要:

We fabricated ZnS films by magnetron sputtering with different deposition time from 1 h to 2.5 h. They are detected by the XRD, SEM, Step profiler and ellipsometer. It was found that the longer the deposition time is, the higher the density is, the smaller the crystal size is and the higher the refractivity is. The extinction coefficient is influenced by the crystal size, the number of crystal boundaries and the porosity.

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期刊信息
  • 《真空》
  • 北大核心期刊(2008版)
  • 主管单位:
  • 主办单位:中国机械工业集团公司有限公司 沈阳真空技术研究所
  • 主编:李玉英
  • 地址:沈阳市沈河区万柳塘路2路
  • 邮编:110042
  • 邮箱:zkzk@chinajournal.net.cn
  • 电话:024-24121929
  • 国际标准刊号:ISSN:1002-0322
  • 国内统一刊号:ISSN:21-1174/TB
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 工程技术类核心期刊,中国期刊网、光盘国家工程中心用刊
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:3452