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微小互连高度下焊点的界面反应及可靠性研究
  • 项目名称:微小互连高度下焊点的界面反应及可靠性研究
  • 项目类别:面上项目
  • 批准号:60776033
  • 申请代码:F040604
  • 项目来源:国家自然科学基金
  • 研究期限:2008-01-01-2010-12-31
  • 项目负责人:吴丰顺
  • 负责人职称:教授
  • 依托单位:华中科技大学
  • 批准年度:2007
中文摘要:

电子封装微互连正向高密度化方向快速发展,微焊点的尺寸及互连高度在不断降低。本项目研究了微小互连高度下(小于100μm)焊点的界面反应及可靠性。微焊点互连高度的降低加强了焊点两侧界面反应的交互作用,使焊点界面微观组织变得更加复杂,对焊点的性能有很大的影响,给电子产品的可靠性带来巨大的挑战。研究中采用Sn、Sn37Pb、Sn9Zn、Sn8Zn3Bi、Sn4.8Bi2Ag、Sn3.5Ag六种不同的互连材料连接Cu和Ni块体,获得互连高度分别为100μm、50μm、20μm和10μm三明治结构的焊点,通过对这些焊点的研究揭示微焊点随着互连高度的降低而产生的微观组织、抗拉强度和断裂模式的变化规律。研究成果为评估先进封装技术焊点的可靠性提供了重要的理论依据和参考

结论摘要:

英文主题词Micron solder joint; Stand-off height; Interfacial reaction; Mechanical property; Reliability


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