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复合多晶硅栅射频高增益MOSFET的研究
  • 项目名称:复合多晶硅栅射频高增益MOSFET的研究
  • 项目类别:面上项目
  • 批准号:60876062
  • 申请代码:F040502
  • 项目来源:国家自然科学基金
  • 研究期限:2009-01-01-2011-12-31
  • 项目负责人:陈军宁
  • 负责人职称:教授
  • 依托单位:安徽大学
  • 批准年度:2008
中文摘要:

复合多晶硅栅射频高增益MOSFET采用栅工程的概念,通过对栅的设计, 得到 特性优良的新结构射频MOSFET。所设计的栅有S-gate和D-gate两块并列组成,S-gate用高功函数p多晶硅,D-gate用低功函数n多晶硅,由于靠源端的阈值电压稍高于 漏端的阈值电压,沟道中产生阶梯分布电势,电场沿沟道有一个峰值,载流子可以得到更大的漂移速度,其结果是提高了驱动电流、跨导和截止频率,同时又减小了漂移区末端的最大场强,降低了热电子效应,抑制了短沟道效应。本课题已经得到国家自然科学基金小额预研项目"复合多晶硅栅射频MOSFET"的资助,并已取得相应成果。本课题是该课题的延续性研究,创新之处在于用与CMOS兼容的工艺、同质材料实现了异质栅MOSFET才能具有的优良性能,提高了RF MOSFET高频性能。

结论摘要:

英文主题词composite polysilicon gate;high-gain;high cut-off frequency; MOSFET


成果综合统计
成果类型
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