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硅基铁电存储器构架中金属间化合物导电阻挡层研究
  • 项目名称：硅基铁电存储器构架中金属间化合物导电阻挡层研究
  • 项目类别：面上项目
  • 批准号：50572021
  • 项目来源：国家自然科学基金
  • 研究期限：1900-01-01-1900-01-01
  • 项目负责人：刘保亭
  • 依托单位：河北大学
  • 批准年度：2005
成果综合统计
成果类型
数量
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利
  • 获奖
  • 著作
  • 23
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期刊论文
铁电薄膜光波导的研究进展
外延PbZr0．4Ti0．6O3薄膜的电光效应
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刘保亭的项目
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　铁电铁磁纳米复合薄膜结构与性能研究
期刊论文 16
铁电铁磁复合薄膜的生长机理、微结构调控及物理性能
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