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MEMS微器件用CoNiMnP永磁体薄膜的工艺制备和性能研究
  • ISSN号:1001-9731
  • 期刊名称:《功能材料》
  • 时间:0
  • 分类:TQ153[化学工程—电化学工业] TM273[电气工程—电工理论与新技术;一般工业技术—材料科学与工程]
  • 作者机构:[1]上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室,上海200030
  • 相关基金:国家自然科学基金资助项目(50405013.10377009);上海市科委重点实验室基金资助项目(05DZ22309)
中文摘要:

研究了采用多种氯化物体系电沉积制备CoNiMnP永磁体薄膜及在微继电器、电磁驱动器永磁体阵列器件方面的应用。对薄膜组成、磁性能的对比研究表明:从稀氯化物体系(200mT)中获得的Co52.4Ni11.9Mn0.4P5.3永磁体薄膜具有最好的磁性能:He=208790A/m,Br=0.2T,(BH)tmax=10.15kJ/m^3,且脆性小、内应力较低。进一步解析发现这可能是因为与易磁化轴相平行的Co(110)面上存在织构所致。在此基础上采用掩膜电沉积技术成功地制备出微继电器原位制造和电磁驱动器永磁体薄膜阵列。

英文摘要:

Permanent CoNiMnP thin film is electrodeposited though several chloride solution, which is potential for microrelay,electromagnetic actuator and permanent magnet array in the field of micro-electro-mechanical system (MEMS). Such parameters of the thin films as its composition, magnetic property,crystal texture,fragility and stress are under study. Results show that the Co82.4 Ni11.9 Mn0.4 P5.3, which is prepared from low concentration chloride bath (200mT), demonstrates the most magnetic properties with coercivity 208790A/m, remanence 0.20T and maximum magnetic energy 10.15kJ/m^3. Moreover,the fragility and stress are controlled to an acceptable degree. The abovementioned good performance of Co82.4 Ni11.9 Mn0.4 P5.3 thin film is attributed to the texture of the (110) crystal plane,which is parallel to its easy axis. Through microlithography,the electrodeposited CoNiMnP is applied to microrelay and electromagnetic microactuator based on permanent array.

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期刊信息
  • 《功能材料》
  • 北大核心期刊(2011版)
  • 主管单位:重庆材料研究院
  • 主办单位:重庆材料研究院
  • 主编:黄伯云
  • 地址:重庆北碚区蔡家工业园嘉德大道8号
  • 邮编:400707
  • 邮箱:gnclwb@126.com
  • 电话:023-68264739
  • 国际标准刊号:ISSN:1001-9731
  • 国内统一刊号:ISSN:50-1099/TH
  • 邮发代号:78-6
  • 获奖情况:
  • 2008、2011年连续获中国精品科技期刊,2010获重庆市双十佳期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:30166